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三氧化钨靶材
三氧化钨（WO3，tungsten trioxide）薄膜是一种重要的功能材料，因其具有优良的电致变色性能而被用于系统中。电子束蒸镀法制备致变色用WO3薄膜常用的蒸镀物质有WO3粉末和WO3靶材两种。目前研究较多的是采用WO3粉末作为蒸镀物质，但是采用粉末的形式通常是不合适的，选择三氧化钨靶材作为蒸镀物质是一种优化方案。
三氧化钨靶材的制备采用一般电子陶瓷的制备方法，其工艺流程一般为：球磨混料—压制成型—烧结。
在制备三氧化钨靶材的过程中，原料的好坏将对陶瓷的最终性能产生决定性的影响。功能陶瓷与传统陶瓷的最大区别在于它对原料的纯度、颗粒尺寸和分布、反应活性、晶型、可利用性以及成本必须全面考虑和控制。常见的三氧化钨靶材的制备方法有固相法、气相法和液相法。
1. 固相法制备三氧化钨靶材时，常采用煅烧APT，在煅烧过程中多次氧化还原的方式，经过每一步氧化或者还原过程后的产物，都较上一过程中尺寸减小；
2. 气相法一般选择易挥发的化合物作为原料；
3. 液相法制备三氧化钨靶材可以将浓盐酸直接加入到钨酸钠溶液中，制得黄钨酸沉淀，沉淀经过干燥、煅烧后，得到三氧化钨靶材材料。
为制备高纯度和超高致密度三氧化钨靶材，需要优化如下几个工艺：
1. 高纯度、高烧结活性且压制性能优良的三氧化钨粉体的制备；
2. 三氧化钨陶瓷的压制工艺；
3. 三氧化钨陶瓷的烧结工艺。
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