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fysisk dampudfældning (sputtering)

Vanskeligheder kombineret med den forhøjede temperatur i tilfælde af CVD kan elimineres ved PVD (sputtering). Underlaget i denne proces er forholdsvis koldt.

En ionstråle (fortrinsvis ædelgas) genereres i en høj vakuumkammer af energi, det frigør wolfram-partikler, som er aflejret på substratet.

Forbedret design af forstøvningsudstyr noget tillader substitution af CVD wolfram. Sputter mål anvendes til tynde lag i mikroelektronik fremstiller er lavet af høj eller ultrahøj renhed W, W-10% Ti, og WSix.

Hvis du har nogen interesse i wolfram pulver, er du velkommen til at kontakte os via e-mail:sales@chinatungsten.com eller telefonisk: +86 592 5129696

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