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물리적 증기 증착 (스퍼터링)
CVD의 경우 상승 된 온도와 관련된 어려움은 PVD (스퍼터링)에 의해 제거 될 수있다. 이 과정에서 기판은 상당히 추운 상태로 유지됩니다. 이온 빔 (바람직하게는 희가스 가스)은 에너지에 의해 고진공 챔버에서 생성되며, 기판 상에 증착 된 텅스텐 입자를 자유롭게 해준다.
스퍼터링 장비의 개선 된 설계는 다소 CVD 텅스텐 대체를 허용합니다. 마이크로 일렉트로닉스 제조에서 얇은 층에 사용되는 스퍼터 타겟은 고순도 또는 초 고순도 W, W-10 % Ti 및 WSix로 만들어집니다.
관심이 있으시면 텅스텐 분말, 언제든지 연락 주시기 바랍니다 이메일:sales@chinatungsten.com 또는 전화로 : +86 592 5129696
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