Физическое осаждение из паровой фазы (напыление)
Трудности в сочетании с повышенной температурой в случае сердечно-сосудистых заболеваний может быть устранена с помощью PVD (напыление). Подложку в этом процессе остается достаточно холодной.
Ионный пучок (предпочтительно инертный газ) образуется в высокой вакуумной камере энергией, она освобождает частицы вольфрама, которые осаждаются на подложке.
Улучшенная конструкция оборудования для распыления несколько позволяет заменить CVD вольфрама. Брызгать слюной цели, используемые для тонких слоев в микроэлектронике производим изготовлены из высокой или сверхвысокой чистоты W, W-10% Ti и WSix.
Если у вас есть какие-либо интерес к порошок вольфрама, пожалуйста, не стесняйтесь связаться с нами по Эл. адрес:sales@chinatungsten.com или по телефону:+86 592 5129696
Больше информации>>