氧化钨的应用
简介
氧化钨是一种钨酸酐，是钨酸盐类产品，氧化钨包括三氧化钨和二氧化钨。三氧钨盐根据三氧化钨的含量不同分为钨酸，钨酸钠，钨酸钙，仲钨酸铵，偏钨酸铵等产品。
氧化钨一部分用于生产化工产品，如油漆和涂料、石油工业催化剂等；但氧化物是一种中间产品，大量的氧化钨被用于金属钨粉和碳化钨粉，进而用于生产金属钨制品的生产，并大量应用与生产钨的合金制品，入钨铜、钨镍，钨镍铁、钨银，钨铼、钨钍等，而当代工业领域中应用最为广泛的则是以钨为基材生产的各种牌号和用途的硬质合金产品。
氧化钨具有气体敏感性，用于检测二氧化氮，氨气等有毒气体的检测。目前已经制备了氧化钨薄膜气敏传感器和氧化钨的纳米颗粒传感器，纳米传感器的发现大大的提高了对于低浓度有毒气体的检测。
陶瓷
为了使陶瓷既可以耐高温又不容易破碎，人们在制作陶瓷的粘土里添加了些三氧化钨，因此制成了三氧化钨陶瓷。三氧化钨属于金属陶瓷类。三氧化钨陶瓷是由钨和陶瓷原料制成的材料，及稀土掺杂三氧化钨，兼有钨和陶瓷的优点如耐高温、抗化学腐蚀、导热性好、机械强度高等。
染色剂
在做生物医学实验或者某些物理化学实验时，为了更好地观察到实验效果，通常会选用合理的染色剂，在选择适当的染色剂后，我们就能够很好地观察到预期的实验现象或结果。染色剂依据来源可分为天然染色剂和人工合成染色剂，各种不同的实验选择不同的染色剂，同一种染色剂也可以用不同的配方进行调配制成。
酒石酸合成
酒石酸(tartaric acid)，即，2,3-二羟基丁二酸，是一种羧酸﹐存在于多种植物中﹐如葡萄和罗望子﹐也是葡萄酒中主要的有机酸之一。作为食品中添加的抗氧化剂﹐可以使食物具有酸味。酒石酸最大的用途是饮料添加剂。也是药物工业原料。在制镜工业中，酒石酸是一个重要的助剂和还原剂，可以控制银镜的形成速度，获得非常均一的镀层。
智能玻璃
电致变色玻璃是利用现有的夹层玻璃制造方法，将调光膜牢固黏结在两片普通浮法玻璃之间构成。该类玻璃是一种新型的功能调光玻璃，通过改变电流的大小可以调节透光率，实现从透明到不透明的调光，是智能型高档功能玻璃。
建筑行业
下水道是城市基础设施中一个不可或缺的部分，其腐蚀降解已经造成了诸多社会问题，如路面坍塌等，因而受到广泛关注。氧化钨、镍的混合物作为抗菌剂掺入混凝土中，起到抑制硫氧化菌抗菌的活性，是一种新的抗腐蚀材料，具有优良的耐久性。
防辐射服
金属纤维防辐射服是防辐射服发展史上的第三代防辐射产品。采用氧化钨纤维与纯棉纤维混纺工艺，也就是把氧化钨抽成细丝，在面料内部形成网状结构。这种金属纤维网可以反射电磁波，当金属网孔径小于电磁波波长（波长=光速/频率）1/4时，就能有效将电磁辐射阻挡在体外。
光催化剂
光催化是今年来发展的新领域，目前有许多的半导体材料被当做光催化剂，用于水分解。WO3中的钨离子由于存在氧缺位而出现部分的W6+还原成为W5+离子，氧缺位影响三氧化钨晶型和能级结构，从而影响了光催化性能。非化学计量WO3-x表现n型半导体行为，禁带宽度为2.4~2.8ev，这也使得它的光催化性能由于其他的半导体材料。
脱硝催化剂
三氧化钨SCR脱硝催化剂的适用温度范围为300~400℃，但是，一般工厂排除的废气温度都没办法达到这一范围，故而烟气脱硝过程中，一般需要用GGH或者燃烧器进行升温，从而导致了能耗和运行费用的增加。因此，降低脱硝催化剂的适用温度，提升其性能，势在必行。
脱硫催化剂
三氧化钨作为一种主要活性物质均匀分散在脱硫催化剂载体上，能降低反应的活化能；另外，三氧化钨能缓解催化剂的硫化中毒和提高抗烧结能力，从而提高催化剂的活性，提高脱硫效率。
气敏传感器
气敏传感器的种类很多，由于气体与材料相互之间的作用形式多种多样，它们所反映出来的物理、化学和生物效应或现象也就各不相同，所以分类方法也很多，有按气体种类分类的（氧敏器件、酒敏器件、氨敏器件等），有按基体材料种类分类的（金属氧化物型、有机高分子半导体型、固体电解质型等），有按工作方式分类的（干式、湿式等），有按结构形式分类的（烧结型、薄膜型、厚膜型等），有按工作机理分类的（电阻型、电容型、二极管特性型、晶体管特性型频率型、电化学型等）。
量子点材料
诸如锂离子电池、超级电容器、燃料电池等新兴能量转化与存储器件，在解决传统能源短缺、可再生能源能量来源不稳定等问题上已展示出巨大潜力，并受到学术界和工业界的广泛关注。
太阳能电池
染料敏化太阳能电池和有机-无机钙钛矿太阳能电池由于具有制作工艺简单，理论能量转化效率高，成本较低等优点，是非常有发展潜力的两种新型薄膜太阳能电池。
电致变色薄膜
利用WO3的电致变色效应，研究人员已将其制备成各种电致变色器件应用于实际生活中。关于WO3薄膜的电致变色机理，目前引用最广泛的就是Faughnan提出的价间跃迁理论。
光致变色薄膜
氧化钨是一种良好的光致变色材料，从1973年首次报道了无定型氧化钨膜的光致变色现象便受到了广泛的关注和研究。1980年Gerard等在前人的基础上首先以真空蒸镀法，通过改变真空度制备了HXWO3-Y膜。后来又改用溅射法，在Ar-O2(制备纯的亚化学计量膜)，Ar-O2-H2和Ar-O2-H2O(改变WO3氢氧组成)三种同反应气氛下溅射，制备了HXWO3-Y膜。
