Feine Wolframpulver
Einführung
Die hohe Qualität und hohe Reinheit feine Wolframpulver sind in der Regel mehr als 99,95% Wolfram Reinheit mit durchschnittlich Partikelgrößes bis zu 10 Mikron. Diese Pulver werden in der Pulvermetallurgie -Anwendungen wie elektrische Kontakte, Schwermetalllegierungen , elektronische Kühlkörper , Mining-Tools und hergestellt Wolframstab / bar eingesetzt.
Typische physikalische Eigenschaften
Art |
AVG. Partikelgröße FSSS (microns) |
Schüttdichte (g/in3) |
Standard Screening |
C3 |
0.60-0.99 |
20 - 40 |
-100 Mesh |
C5 |
1.00-1.39 |
25 - 50 |
-100 Mesh |
C6 |
1.40-1.99 |
30 - 60 |
-100 Mesh |
C8 |
2.00-3.99 |
35 - 70 |
-200 Mesh |
C10 |
4.00-5.99 |
40 - 80 |
-200 Mesh |
C20 |
6.00-9.99 |
50 - 90 |
-200 Mesh |
Typische Spurenelement Chemische Analyse
metallischen Verunreinigungen (WT%) |
||||||
| Element | Max | Typische | Element | Max | Typische | |
Al |
0.003 |
<0.001 |
Mo |
0.020 |
0.005 |
|
Co |
0.005 |
<0.001 |
Na |
0.010 |
0.005 |
|
Cr |
0.020 |
0.005 |
Ni |
0.020 |
0.005 |
|
Cu |
0.005 |
<0.001 |
Si |
0.002 |
<0.001 |
|
Fe |
0.020 |
0.002 |
Sn |
0.002 |
<0.001 |
|
Nichtmetallische Unrein (WT%) |
||||||
Art |
Kohlenstoff |
Oxygen (Verlust auf Reduction) |
||||
C40 |
<0.008 |
<0.070 |
||||
C60 |
<0.008 |
<0.070 |
||||
C80 |
<0.008 |
<0.070 |
||||
WOLFRAM (WT%) > 99.8% Ohne Gase |
||||||